光学掩膜版除胶清洗剂-羽杰科技
羽杰科技研发生产的光学掩膜版除胶清洗剂MLJ-2508D是一款专为光学掩膜版清除光刻胶，高精密光学及半导体行业设计的环保型清洗剂。产品采用创新配方，摒弃传统清洗剂中常见的丙酮、强酸强碱等有害成分，以高效、安全、环保为核心优势，广泛应用于光学掩膜版、芯片、半导体器件及精密光学玻璃的表面污染物清洁，助力客户实现高质量生产与可持续发展目标。
二、产品特点
1. 绿色环保，安全无害
无丙酮、无强酸强碱：彻底避免传统清洗剂中丙酮的毒性风险，以及强酸强碱对设备和人员的腐蚀性危害。
水性配方，可稀释使用：以水为溶剂基材，可直接按比例兑水稀释（建议比例1:3至1:5），降低使用成本，减少化学废液排放。
低VOC排放：符合国际环保标准（如RoHS、REACH），减少挥发性有机物对环境的污染。
2. 高效清洁，兼容性强
广谱清洁能力：可快速溶解并清除光学表面各类顽固污染物，包括：
- 粘接剂（如UV胶、环氧树脂）
- 保护胶、光刻胶残留
- 油污、指印、粉尘颗粒
- 金属离子污染物
无损清洁：温和配方确保不损伤掩膜版镀膜层、光学玻璃表面及半导体器件精密结构。
快速干燥：清洗后表面无残留，干燥速度快，提升产线效率。
3. 经济实用，操作便捷
稀释使用，成本更低：通过兑水稀释，单次使用量减少30%-50%，显著降低客户采购成本。
兼容多种工艺：适用于超声波清洗、喷淋清洗、浸泡、手工擦拭等多种清洗方式。
长保质期：稳定性强，储存条件宽松（常温避光保存），保质期长达12个月。
三、适用领域
本产品专为以下高精密场景设计：
1. 光学掩膜版清洁：
清除光刻胶残留、保护膜胶渍，确保掩膜版透光率和图形精度。
2. 半导体与芯片制造：
用于晶圆、封装器件的表面污染物清洗，避免微尘影响良率。
3. 高精密光学玻璃：
清洁镜头、棱镜、滤光片等光学元件的油污和粘合剂残留。
4. 显示面板行业：
适用于OLED/LCD面板生产中的玻璃基板清洗。
5. 科研与实验室：
满足超净环境下的精密器件清洁需求。
四、环保性能深度解析
1. 成分安全，全程可控
生物降解性：主要成分通过OECD 301标准认证，自然降解率＞90%，减少土壤与水污染风险。
无毒性认证：通过SGS检测，不含重金属、苯类、卤代烃等有害物质，对人体和环境无危害。
2. 减少废弃物处理成本
废液易处理：水性配方废液可直接通过常规污水处理系统处理，无需额外投入高成本危废处理流程。
降低碳排放：生产过程中采用绿色合成工艺，减少能源消耗与碳足迹。
3. 符合国际标准
通过RoHS 2.0、REACH（SVHC）等法规认证，满足欧盟及全球主流市场环保准入要求。
五、技术参数
项目 |
参数 |
外观 |
无色透明液体 |
pH值（原液） |
12.5-14.5（中性） |
密度（25℃） |
1.02-1.05 g/cm³ |
闪点 |
无（不燃不爆） |
推荐使用温度 |
常温-80℃ |
稀释比例 |
原液至1:5（纯水） |
六、服务与支持
1. 定制化方案：根据客户工艺需求，提供浓度调整或配方优化服务。
2. 技术指导：免费提供清洗工艺参数建议（如超声波功率、清洗时间）。
3. 样品试用：支持小批量样品申请，验证清洗效果后再批量采购。
4. 快速响应：24小时在线技术支持，解决客户使用中的问题。
羽杰科技致力于以创新环保技术推动精密制造行业升级，我们的光学掩膜版清洗剂不仅是清洁工具，更是客户实现高效生产与绿色责任的理想选择！
让清洁更高效，让制造更绿色！
本文标题：光学掩膜版除胶清洗剂-羽杰科技
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