掩膜版专用清洗剂 MLJ-2508D
羽杰科技研发生产的光学掩膜版除胶清洗剂 MLJ-2508D 是一款 专为光学掩膜版清除光刻胶，高精密光学及半导体行业设计的环保型 清洗剂。产品采用创新配方，摒弃传统清洗剂中常见的丙酮、异丙醇、 强酸强碱等有害成分，清洗剂万级无尘车间生产，经过微米级过滤， 产品品质佳无污染离子、杂质影响。
MLJ-2508D 光学掩膜版除胶清洗剂以高效、安全、环保为核心优 势，广泛应用于光学掩膜版、芯片、半导体器件及精密光学玻璃的表 面污染物清洁，助力客户实现高质量生产与可持续发展目标。
二、产品特点
1. 绿色环保，安全无害 无丙酮、异丙醇、无强酸强碱：彻底避免传统清洗剂中丙酮的毒 性风险，低闪点爆燃风险、以及强酸强碱对设备和人员的腐蚀性危害。 水性配方，可稀释使用：以水为溶剂基材，可直接按比例兑水稀 释（建议比例 1:3 至 1:5），降低使用成本，减少化学废液排放。 低 VOC 排放：符合国际环保标准（如 RoHS、REACH、GB38508-2020）， 减少挥发性有机物对环境的污染。
2.高效清洁，兼容性强 广谱清洁能力：可快速溶解并清除光学表面各类顽固污染物，
包括：
- 粘接剂（如 UV 胶、环氧树脂）
- 保护胶、光刻胶残留
- 油污、指印、粉尘颗粒
- 金属离子污染物
无损清洁：温和配方确保不损伤掩膜版镀膜层、光学玻璃表面及 半导体器件精密结构清洗简单，
易漂洗，无残留无白点无水雾现象。
快速干燥：清洗后表面易漂洗，无残留无白点无水雾现象。干燥 速度快，提升产线效率。
3. 经济实用，操作便捷 稀释使用，成本更低：通过兑水稀释，单次使用量减少 30%-50%， 显著降低客户采购成本。 兼容多种工艺：适用于超声波清洗、喷淋清洗、浸泡、手工擦拭 等多种清洗方式。 长保质期：稳定性强，储存条件宽松（常温避光保存），保质期 长达 12 个月。
三、适用领域 本产品专为以下高精密场景设计：
1.高精密光学掩膜版清洁： 清除光刻胶残留、保护膜胶渍，确保掩膜版透光率和图形精度。
2. 半导体与芯片制造： 用于晶圆、封装器件的表面污染物清洗，避免微尘影响良率。
3. 高精密光学玻璃： 清洁镜头、棱镜、滤光片等光学元件的油污和粘合剂残留。
4. 显示面板行业： 适用于 OLED/LCD 面板生产中的玻璃基板清洗。
5. 科研与实验室： 满足超净环境下的精密器件清洁需求。
四、环保性能深度解析
1. 成分安全，全程可控 环保性认证：通过 ROHS10 项检测认证，不含重金属、苯类、卤代 烃等有害物质，对人体和环境无危害。
2. 减少废弃物处理成本 废液易处理：水性配方废液可直接通过常规污水处理系统处理， 无需额外投入高成本危废处理流程。 降低碳排放：生产过程中采用绿色合成工艺，减少能源消耗与碳 足迹。
3. 符合国际标准 通过 RoHS 2.0、REACH（SVHC）GB38508-2020 等法规认证，满足 欧盟及全球主流市场环保准入要求。
五、技术参数 项目
六、操作工艺
1.清洗方法可采用热浸泡处理、喷淋清洗等工艺方式。
2.可以在 25℃至 90℃下清洗残留光刻胶。升温可以节省更多的时间， 具体方法如下:将含有残留光刻胶的精密掩膜版浸入兑好纯水的清洗 剂中,在 25℃至 90℃下浸泡合适的时间（5-10 分钟以清洗干净为准）。
3.可根据清洗对象脏污程度来调配清洗液的浓度，用原液直接浸泡 3-10 分钟，或者兑水 1-4 倍超声波/兆声波清洗。
七、服务与支持
定制化方案：根据客户工艺需求，提供浓度调整或配方优化服务。
技术指导：免费提供清洗工艺参数建议（如超声波功率、清洗时间）。
样品试用：支持小批量样品申请，验证清洗效果后再批量采购。
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快速响应：24 小时在线技术支持，解决客户使用中的问题。
八：质量标准： 产品符合中华人民共和国水基清洗剂标准 JB/T4323-2019； 产品符合欧盟 ROHSRoHS 2.0、REACH（SVHC）GB38508-2020 标准。
九、产品包装、贮存和运输： 塑料桶包装：5Kg/桶 25Kg/桶，非危险品易于储存和运输；
贮存期一年，不能露天存放，防止日晒雨淋； 未使用完的清洗剂须将桶盖拧紧，避免水分及杂质混入。
羽杰科技致力于以创新环保技术推动精密制造行业升级，我们的 光学掩膜版清洗剂不仅是清洁工具，更是客户实现高效生产与绿色责 任的理想选择！ 让清洁更高效，让制造更绿色！
